Shandong Zhongshan Photoelectric Materials Co., Ltd
モデル: Boron11 Trichloride
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Boron11トリクロイド半導体ドーパント半導体乾燥エッチング
製品導入
通常の温度と圧力では、三塩化ホウ素（Bcl 3 ）は無色の煙ガスであり、可燃性、刺激性、酸性臭です。三塩化ホウ素は塩酸とホウ酸に分解し、水で遭遇する多くの熱を放出し、加水分解のために湿った空気で煙を発生させ、Bcl 3はアルコール中の塩酸とボーシン酸エステルに分解します。三塩化ホウ素には強い反応能力があり、さまざまな配位化合物を形成できます。三塩化ホウ素は、加熱するとガラスとセラミックと反応する可能性があり、多くの有機化合物とも反応して、さまざまな有機胞子化合物を形成します。高純度Boron11トリクロリドは、主に（シリコン）半導体デバイスの製造プロセスにおける拡散ドーピングに使用されます。ホウ素の不純物は、Bcl 3の分解によって生成され、シリコンに向かって拡散して、高温でP型半導体を形成します。 Bcl 3は、Al、Mosi 2 、Tasi 2 、Tisi 2 、WSIおよびその他の材料の乾燥エッチングにも使用できます。
品質仕様
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items |
Units |
Index |
|
Boron11 Trichloride≥ |
Vol.% |
99.9995 |
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Oxygen+Argon< |
Vol.ppm |
1 |
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Nitrogen< |
Vol.ppm |
4 |
|
Ca rbon monoxide< |
Vol.ppm |
0.5 |
|
Carbon dioxide< |
Vol.ppm |
0.2 |
|
Methane < |
Vol.ppm |
0.5 |
|
Total impurity content≤ |
Vol.ppm |
5 |
|
Metal ion |
Vol.ppm |
Supply and demand agreement |
応用
三塩化ホウ素は、高純粋なホウ素、有機合成のための触媒、ケイ酸塩分解のためのフラックス剤を製造するために使用できます。また、アロイ精製でデオキシジダイザー、窒化物、炭化物の添加物としても使用されます。高純粋なボロントリクロリドは、主に拡散ドーピング、イオン移植、乾燥エッチング、および半導体デバイスおよび統合回路製造のその他のプロセスに使用されます。
パッケージと保管
Boron11トリクロリドはシリンダーに満たされています。トリクロリドBoron11で満たされたシリンダーは、GB14193の関連規定に適合しています。パッケージの仕様には10Lと47Lが含まれます。製品は、60 ℃未満の日陰の乾燥した換気のある貯蔵庫に保管されています。太陽にさらされることは禁じられており、熱源から遠ざけています。パッケージを密封する必要があり、アルカリやその他の危険物で個別に保管する必要があります。
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