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ZSEMは、チップ製造を容易にするために、さまざまな高純度フッ素含有電子特殊ガスと有機溶媒を生産します。絶えず変化するテクノロジーとデバイスの縮小プロパティにより、クリーニングプロセスは毎回複雑になります。ウェーハ汚染物質は、直径0.1〜20ミクロンの粒子、有機および無機汚染物質、および不純物の範囲です。最終表面に追加の不純物や汚染物質を導入することなく、ウェーハのクリーニングを行う必要があります。
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