Shandong Zhongshan Photoelectric Materials Co., Ltd
モデル: Sulphur Hexafluoride CAS: 2551-62-4
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硫黄ヘキサフルオリドCAS：2551-62-4 SF6 99.999％5N高純度電子スペシャルガス
製品の使用
硫黄ヘキサフルオリドは、分子量が146.07、融点が-51°C、沸点-64°Cの無酸素、無毒、非炎症性不活性ガスです。硫黄ヘキサフルオリドの分子構造は八面体に配置されており、結合距離は小さく、結合エネルギーが高く、その安定性が高くなっています。電子グレードの高純度硫黄ヘキサフルオリドは理想的なエッチャントです。ヘキサフロリド硫黄を使用して、シリコンの表面をエッチングし、半導体材料で有機膜または無機膜を除去し、光ファイバーの製造に使用できます。
品質仕様
|
Items |
Units |
Index |
|
（SF6）Sulfur hexafluoride |
Vol./% |
≥99.999% |
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Oxygen+Argon（O2+Ar）≤ |
Vol.ppm |
≤2 |
|
Nitrogen（N2）≤ |
Vol.ppm |
≤2 |
|
Carbon tetrafluoride（CF4）≤ |
Vol.ppm |
≤1 |
|
Carbon monoxide（CO）≤ |
Vol.ppm |
≤0.5 |
|
Carbon dioxide（CO2）≤ |
Vol.ppm |
≤0.5 |
|
Methane（CH4）≤ |
Vol.ppm |
≤0.5 |
|
Moisture（H2O）≤ |
Vol.ppm |
≤3 |
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Acidity（以HF计）≤ |
μg |
≤0.1 |
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Hydrolytic fluoride（以HF计）≤ |
μg |
≤0.8 |
|
Total impurity content≤ |
μg |
≤10 |
|
Particle |
μg |
Supply and demand agreement |
応用
電子グレードの高純粋なヘキサフルオリドは、マイクロエレクトロニクス技術の分野で広く使用されている理想的な電子エッチング剤であり、コンピューターチップやLCDなどの大規模な統合回路の製造におけるプラズマエッチングおよび洗浄剤として使用されます。ヘキサフルオリド硫黄は、光ファイバの調製にフッ素ドープガラスを生成するフッ素源として使用されます。さらに、ヘキサフルオリド硫黄は、絶縁ガス、トレーサー剤、冷媒としても使用できます。
パッケージング、ストレージ
硫黄ヘキサフルオリドは標準のシームレスシリンダーに保存されます。通常、シリンダーの体積は40L、シリンダーのタイプはCGA590 QF-2、シリンダー圧力は8.0MPAおよび12.5MPAです。特定のパッケージ仕様は、ユーザーの要件に応じてカスタマイズできます。硫黄ヘキサフルオリドは、火災や熱源から離れた日陰で換気された貯蔵庫に保管されています。貯蔵室の温度は30°を超えません。可燃性（可燃性）および酸化剤で個別に保存する必要があります。貯蔵エリアには、緊急事態のための緊急機器が装備されているものとします。
製品グループ : 半導体電子化学材料 > フッ素を含む高純度の電子スペシャルガス
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