Shandong Zhongshan Photoelectric Materials Co., Ltd

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ホーム製品情報半導体電子化学材料半導体/ウェーハエッチング材料NF3窒素トリフルオリド高純度

NF3窒素トリフルオリド高純度

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製品の属性

モデルNitrogen Trifluoride CAS: 7783-54-2

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Gram

NF3窒素トリフルオリドCAS:7783-54-2 99.5%

電子の高い純度

特別なガスのエッチング


製品の使用


窒素トリフッ化物(NF3)は、一種の無色の、無臭で特性安定したガスであり、一種の強い酸化剤でもあります。その融点は206.8℃で、沸点は129.0℃で、水に不溶です。マイクロエレクトロニクス産業におけるトリフッ化窒素は、一種の優れた血漿エッチングガスであり、血漿エッチングの過程で活性フッ化物イオンに亀裂があります。シリコンと窒化シリコンのプラズマエッチングの場合、トリフッ化窒素を使用すると、特に1.5μm未満の厚さを伴うイベント統合回路材料のプロセスで、炭素電話または酸素混合ガスを使用するよりも高いエッチング速度と選択性が高くなります。窒素トリフルオリドは優れたエッチング速度と選択性を備えています。さらに、エッチングされた材料の表面に汚染がなく、優れた洗浄剤でもあります。

製品パラメーター


Items Unit Indexs
(NF3)≥ Vol.% 99.5 99.9 99.98 99.99 99.996
(CF4)≤ Vol.ppm 1500 500 100 50 20
(N2)≤ Vol.ppm 700 50 10 10 5
(O2+Ar))≤ Vol.ppm 700 50 10 5 3
(CO)≤ Vol.ppm 50 10 10 5 1
(CO2)≤ Vol.ppm 25 10 10 5 0.5
(N2O)≤ Vol.ppm 50 10 10 5 1
(SF6)≤ Vol.ppm 50 50 10 5 2
Hydrolyzable fluoride
(Measured by HF)≤
Vol.ppm 1 1 1 1 1
(H2O)≤ Vol.ppm 1 1 1 1 1

製品グループ : 半導体電子化学材料 > 半導体/ウェーハエッチング材料

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